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BOE(京東方)創(chuàng)新研發(fā)光刻AMQLED:突破傳統(tǒng)制程分辨率限制,引領(lǐng)量子點(diǎn)顯示行業(yè)新風(fēng)向

2023-05-29 09:23:54   作者:   來源:   評論:0  點(diǎn)擊:


近日,BOE(京東方)基于量子點(diǎn)直接光刻工藝(direct photolithography  of quantum dots in QLED, DP-QLED)開發(fā)的4.7英寸650 PPI 主動矩陣量子點(diǎn)發(fā)光二極管(AMQLED)顯示樣機(jī)驚艷亮相2023 SID國際顯示周,引發(fā)業(yè)界廣泛關(guān)注。

 

 

京東方4.7英寸650PPI光刻法AMQLED亮相2023 SID

BOE(京東方)這款光刻法AMQLED樣機(jī)對比度超過10,000,000 : 1,色域可達(dá)85% BT2020,是京東方繼自主研發(fā)出5英寸、14英寸、55英寸4K(80PPI)、55英寸8K(160PPI)等多款電致發(fā)光AMQLED顯示屏后,所推出的又一款顛覆性AMQLED技術(shù),再一次引領(lǐng)了量子點(diǎn)顯示的行業(yè)技術(shù)新風(fēng)向,也標(biāo)志著京東方率先將AMQLED這一顛覆性創(chuàng)新顯示技術(shù)進(jìn)入量產(chǎn)驗(yàn)證階段,進(jìn)一步提升了中國顯示產(chǎn)業(yè)在全球的領(lǐng)先地位。

 

 

1、無需FMM,制程更簡單,產(chǎn)品開發(fā)更高效

BOE(京東方)開發(fā)的量子點(diǎn)直接光刻(DP-QLED)工藝,僅需要涂膜、曝光、顯影三步即實(shí)現(xiàn)了一種量子點(diǎn)的圖案化;相對于其它光刻圖案化工藝,步驟減少,無需引入附加結(jié)構(gòu),可有效提升效率、成本可大幅降低。該工藝無需使用昂貴且制作周期長的精細(xì)金屬掩模版(FMM),通過使用成熟度高的曝光光罩,量子點(diǎn)直接光刻(DP-QLED)即可在全尺寸領(lǐng)域范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)高度自由的尺寸與像素密度的規(guī)格組合、高度自由的像素排布設(shè)計(jì)、更高的開口率和器件壽命、更簡單的工藝制程及更靈活、高效的產(chǎn)品開發(fā)。

2、突破傳統(tǒng)制程分辨率限制,助力實(shí)現(xiàn)顯示領(lǐng)域全尺寸覆蓋

由于量子點(diǎn)材料為無機(jī)納米粒子,此前業(yè)界普遍認(rèn)為其量產(chǎn)方式為噴墨打印工藝。由于噴墨打印精度的限制,其應(yīng)用領(lǐng)域通常被認(rèn)為局限在300PPI及以下分辨率的大尺寸顯示產(chǎn)品。BOE(京東方)特有的量子點(diǎn)直接光刻(DP-QLED)圖案化工藝,突破了傳統(tǒng)蒸鍍與噴墨打印制程對分辨率的限制,其分辨率理論上取決于曝光機(jī)及光罩的精度,在原理上甚至可以得到亞微米級的圖案線寬,達(dá)到10000PPI以上的像素密度。

BOE(京東方)量子點(diǎn)光刻法極大推動了QLED技術(shù)在中、小尺寸面板市場以及微顯示市場的商業(yè)化進(jìn)程,助力實(shí)現(xiàn)QLED技術(shù)在顯示領(lǐng)域的全尺寸覆蓋,為客戶帶來極致的視覺體驗(yàn)。

 

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